针对半导体制造的
过滤解决方案
作为半导体行业内公认且值得信赖的领导者之一，我们开发的过滤解决方案可控制备受关注的制造、工具以及就地使用位置中存在的气相分子杂质。
先进的技术
针对会降低工具性能、影响关键流程和减少产量的各种杂质，唐纳森开发了过滤技术，该过滤技术可提供可靠的保护并延长滤芯使用寿命。
产品性能
我们的产品具有优质性能，这使唐纳森成为应对复杂环境中高过滤效率的严苛过滤要求的首选之一，我们的产品可帮助您满足日益严格的生产工艺要求。
降低拥有成本
我们通过经济高效的补充项目实现了滤芯的重复使用与可替换性；通过减少更换次数与废弃费用进一步降低拥有成本。 唐纳森业务网点遍布全球，可满足您全球业务的过滤需求。
改善了光刻技术的滤芯性能
空气分子杂质（Airborne Molecular Contamination，AMC）会导致半导体制造中出现生产工艺问题。 唐纳森的镜头保护系统（Lens Protection System，LPS）技术可向您提供更有效的杂质控制，能够满足并超出您的预期要求。
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